設備名 | CVS分析装置(ECI製) |
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メーカー | ECI technlogy |
型式 | QL10EX |
仕様 |
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使用用途 | 硫酸銅めっき液中の添加剤濃度の定量 |
設備名 | CVS分析装置(ECI製) |
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メーカー | ECI technlogy |
型式 | QL10EX |
仕様 |
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使用用途 | 硫酸銅めっき液中の添加剤濃度の定量 |
CVS(サイクリックボルタンメトリックストリッピング)法により、AgCl電極を使用し電極表面の電流-電位曲線から目的物質の定量を行います。 ビアフィルめっきにおいて、基板等の回路表面の平坦化、およびボイドをつくらずビア内を銅めっきで充填させるためには、ビアホール内部のめっき析出を優先的に行う必要があります。そのために硫酸銅めっき浴中の添加剤のバランス(濃度管理)が重要です。
一般的に硫酸銅の添加剤成分には、抑制剤、促進剤、レベリング剤があります。CVS分析法では、これらの成分を以下の方法を用いることで、ハルセル試験では検出が困難な濃度変化の測定を独立して分析することが出来ます。
●抑制剤:DT(Dilution Titration)法
●促進剤:MLAT(Modified Linear Approximation echnique)法
●レベリング剤:RC(Response Curve)法
また、ターンテーブルを併用することにより多数のサンプルを続けて分析することができます。