めっき技術 TECHNOLOGY

量産実績有り

基板への電解めっき

Electroplating on substrate

基板への電解めっき

あらゆる基板の大きさ、形状に対して電解めっき(Cu、Ni、Ag、Auなど)が可能です。電解めっきのため、数百μmの厚付けにも対応でき、独自の治具設計技術により分布の安定化を図ります。
各種めっき液ラインナップにより、様々なめっきの組み合わせが可能です。また、自動めっきラインで設計開発が可能で、お客様の量産化ご要望にもスピーディに対応いたします。

主な機能
接合性 耐食性 高導電 低抵抗 配線形成 高熱伝導

主な基材

製品素材: アルミナ、LTCC、窒化物、樹脂系、金属板、SUSなど

電極素材: Cu、Ag、NiCrなど

基板サイズ: 20×20~500×500mm

対応実績

量産実績

電解銅(Cu) 低抵抗、導電性、放熱性
電解ニッケル(Ni) 電極保護、下地、接合用途
電解ニッケルストライク 密着性向上
電解銀(Ag) 熱電導性、導電性
電解金(Au) 耐食性、接合性(はんだ・WB・導電接着)

試作実績

電解スズ(Sn) 接合性(はんだ)
電解光沢銅(Cu) 低抵抗、導電性、放熱性

上記以外の仕様についてもお気軽にご相談ください

技術の特徴

厚付け銅めっきに対応

当社では「寸法補正」や「放熱性向上」「導電性向上」など、基板の品質用途に合わせた銅の厚付けのめっきが可能です。
銅めっきで最大 ”200μm”の厚付けめっきの実績がございますが、ご要望に応じて更なる厚付けも可能です。
また、厚付けしためっきに対して「非破壊」での膜厚測定も可能となっております。

基板上への厚付け銅めっき200μm

 

様々なめっき膜の組み合わせに対応

「Ni-Cu」「Ni-Cu-Ag」など、お客様の設計要求に合わせ、自由な組み合わせでのめっきが可能です。
電解めっきのため、薄膜のめっきから、最大200µmレベルの厚膜めっきまで対応が可能となっております。

電解Au、Ni,Cu,Agめっき基板
電解めっき基板(左からAu,Ni,Cu,Agめっき)

 

小~大サイズ基板まで対応

当社では、お客様の基板のサイズに合わせてめっき治具を設計することで、最小20mm角~500mm角までの様々なサイズの基板に対してめっき処理が可能です。

また、「丸形」や「短冊形」などの特殊形状基板にも対応しております。

様々な基板サイズに対応する独自治具設計
様々な基板サイズに対応する独自治具設計

両面めっきにも対応

当社では、表裏に電極がある基板に対して、両面を同時にめっき処理することが可能です。
表裏のパターンが異なる場合、少なからずめっきの厚みに差が生じてしまいますが、当社では製品に応じた独自のめっき治具設計技術により、表裏のめっき成膜をコントロールし、めっき膜厚の差を抑制することが可能です。
表裏で表面積が大きく異なる場合でも、表裏の膜厚差を「±5%以内」に抑えた実績もございます。

表裏で面積差がある基板のイメージ
表裏で面積差がある基板イメージ

基板めっきライン量産対応

当社では、基板めっき専用の自動めっきラインを保有しています。
当社独自システムによる自動処理により、多くの基板を様々な組み合わせで一括処理することが可能で、月産数万枚レベルの量産実績もございます。また、量産ラインでの試作検証が可能となっており、スピーディーな量産化を実現することができます。

基板用電解自動めっきライン