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●第21回マイクロマシン/MEMS展特集No.2 ”再配線めっき技術”

当社のめっき技術および所有インフラにて半導体ウェハ上に再配線処理および半田めっきバンプまで一貫して作製が出来ます。 少量の試作でも御対応いたします。

詳細は、
●第21回マイクロマシン/MEMS展にてお待ちしております。
会期  2010年7月28日[水]〜30日[金]
午前  10時〜午後5時
会場  東京ビッグサイト(東京国際展示場) 東ホール
ブースNo. K−22(清川メッキ 半導体めっき技術/MEMS)


リンク
第21回 マイクロマシン展/MEM展 SURTECH2010(表面技術総合展)

テーマ:展示会    【 2010年07月21日 】