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半導体用語解説シリーズ。シリーズ第3回目は『さ行』。

●紫外線露光(ultra-violet light exposure)
マスクパターンをフォトレジストに転写する際に、紫外線領域の波長を有する光源を用いた露光法。

●シリコンウェハ(silicon wafer)
円柱状のシリコン単結晶を薄い円盤状に切り出し、鏡面状態に研磨したもの。

●シリコン酸化膜(silicon oxide)
シリコンと酸素の化合物。二酸化シリコン(SiO2)が代表的。

●真性半導体(intrinsic semiconductor)
不純物をほとんど含まず、非常に安定な半導体結晶のこと。非常に安定な状態であるが故に、電流を流し難い特徴がある。純度は9 nines(99.9999999%、9が9個)〜11 nines(99.999999999%、9が11個)程度。ちょっとピンとこない人のために、地球上に60億人の人型生物がいるうち、59億9999万9994人が地球人でたったの6人だけが宇宙人ということに相当する。
これに対し、真性半導体に他の原子を少し混ぜたものを不純物半導体という。

●スパッタリング(sputtering)
物理気相成長(PVD)の一つでスパッタともいう。真空チャンバー内にアルゴンや窒素などの不活性ガスを注入して、高電圧をかけることでイオン化させる。この時、プラズマ中のイオンが陰極のターゲットに衝突して原子をはじき出す現象(スパッタ)。これを利用して気相成長やエッチングを行う。

●スピンコーター(spin coater)
ウェハや基板上に均一にレジストを塗布する装置。水平にしたウェハや基板の中心を軸に高速で回転させ、その上にレジストを滴下することで均一なレジスト膜を得ることができる。

●スピン乾燥機(spin dryer)
水洗が終わったウェハをキャリアに入れ高速回転させ、遠心力により水を飛ばして乾燥させる装置。
オーブン乾燥で懸念されるウォーターマークを改善するのに有用。

●清浄度、清浄度レベル(cleanliness, cleanliness level)
空間の清浄度。一定体積中に含まれる粒子(パーティクル)の大きさ別の数によって表す。粒子(パーティクル)の数により清浄度はクラス分けされる。クラス分けされた清浄度度合いを清浄度レベルと表す。クリーンルームの清浄度はパーティクルカウンターと呼ばれる装置で測定する。

●前室(pre-cleanroom)
クリーンルームに入る前、防塵服を着用したり手を洗ったりと、入室する条件を満たすように準備を擦る部屋のこと。


次回は『た行』について解説します。


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半導体用語解説シリーズ

テーマ:心ときめく技術力    【 2010年01月28日 】